上海2015年3月16日電 /美通社/ -- 在即(ji)將舉辦的(de) Semicon China 2015上，盛美半(ban)導(dao)體設備（上海）有(you)限公司（W5,5359展(zhan)位）將首次展(zhan)示其最(zui)新(xin)一代 Ultra C SAPS V 清洗(xi)設備。

12腔設(she)備概念圖

集(ji)成(cheng)(cheng)電路(lu)設(she)計線寬的(de)(de)(de)(de)不斷縮(suo)小，使(shi)(shi)得對污染物的(de)(de)(de)(de)控制(zhi)變得空前(qian)嚴格，直接導致單片清(qing)(qing)洗(xi)工藝(yi)步驟的(de)(de)(de)(de)增(zeng)加，針對28納米(mi)以(yi)下集(ji)成(cheng)(cheng)電路(lu)產品，盛美半導體推(tui)出(chu)最新的(de)(de)(de)(de) Ultra C SAPS V 300mm 12腔單片清(qing)(qing)洗(xi)設(she)備(bei)。該清(qing)(qing)洗(xi)設(she)備(bei)配備(bei)了12只工藝(yi)腔體，占(zhan)地面積(ji)在比(bi)上(shang)一代8腔體 SAPS II 只提(ti)升12%的(de)(de)(de)(de)同時，但是(shi)產能(neng)可以(yi)提(ti)升約50%，從而提(ti)升單位面積(ji)無塵(chen)室的(de)(de)(de)(de)使(shi)(shi)用效率以(yi)及單步清(qing)(qing)洗(xi)工藝(yi)滿足多種清(qing)(qing)洗(xi)需求。

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