日本東京2021年7月15日 /美通社/ -- 面向半導體、醫療保健和制藥行業的分子傳感和診斷產品領先制造商今天宣布推出，這(zhe)是一個創新的原位半(ban)導體(ti)計量平臺(tai)，集成(cheng)了等離(li)子體(ti)離(li)子源。

Ascon是半導(dao)體(ti)(ti)生(sheng)產(chan)過(guo)(guo)程(cheng)計量(liang)領(ling)域的一(yi)項重(zhong)大進展，可實(shi)現原位分(fen)子過(guo)(guo)程(cheng)控制，并(bing)有(you)助于現有(you)晶圓廠更高效地運(yun)行(xing)，從(cong)(cong)而推動(dong)產(chan)量(liang)的提高。Ascon是一(yi)個用(yong)于半導(dao)體(ti)(ti)生(sheng)產(chan)的強大平(ping)臺，從(cong)(cong)頭開始構(gou)建，可替代(dai)多種(zhong)傳統工(gong)具，并(bing)在一(yi)整套(tao)應用(yong)中提供前(qian)所未有(you)的控制水平(ping)，包(bao)括光刻、電介(jie)質及導(dao)體(ti)(ti)蝕刻和沉積、腔(qiang)室(shi)清潔、腔(qiang)室(shi)匹配和氣(qi)體(ti)(ti)減排。

“通過Aston，我(wo)們看(kan)到某些(xie)應用(yong)中單位流程(cheng)吞吐量增(zeng)長超過40%，這是一項重大(da)改進(jin)。即使晶(jing)圓廠總產量增(zeng)長1%，也(ye)可以(yi)為一家典型(xing)的晶(jing)圓廠每年增(zeng)加(jia)價值數千萬美元的產量，”Atonarp創始(shi)人兼首席技術官Prakash Murthy表(biao)示，

“如(ru)果將Aston裝配到(dao)現有生(sheng)產(chan)(chan)工藝機具(ju)上，僅在六到(dao)八周內即可帶來更高(gao)的產(chan)(chan)量，相比之下，若安裝新的生(sheng)產(chan)(chan)設備則需要(yao)長達一年的時間，”Murthy補充道， “這將極大地(di)幫助(zhu)制(zhi)造商(shang)提高(gao)生(sheng)產(chan)(chan)水(shui)平，并幫助(zhu)解決當前(qian)半導體產(chan)(chan)能短缺的問題。”

快速可操(cao)作(zuo)端點檢測（EPD）是運行半導體機具和晶圓(yuan)廠最(zui)有效的(de)方(fang)式。到(dao)目前為(wei)止，EPD尚未能(neng)部署在(zai)許多工(gong)藝(yi)步(bu)驟中，因為(wei)所需的(de)原位傳感(gan)器(qi)無法承受惡劣的(de)工(gong)藝(yi)或腔室(shi)清潔(jie)化學品，否則將遭受冷凝沉積物(wu)的(de)堵塞。從歷史上看，晶圓(yuan)廠被迫在(zai)固(gu)定(ding)時(shi)(shi)間(jian)進行清潔(jie)來確保流(liu)程按時(shi)(shi)完(wan)成。相反，Aston通過(guo)在(zai)流(liu)程完(wan)成時(shi)(shi)進行準確檢測（包括腔室(shi)清潔(jie)）來優化生產，從而將所需的(de)清潔(jie)時(shi)(shi)間(jian)縮短高(gao)達80%。

Aston耐受腐蝕性氣(qi)體和氣(qi)化污染物(wu)冷凝液。它比現(xian)有解決(jue)方案(an)更穩健，采用獨立雙離子(zi)(zi)源(yuan)（包括一個(ge)常規電子(zi)(zi)轟擊離子(zi)(zi)源(yuan)和一個(ge)無燈絲等(deng)離子(zi)(zi)體發生(sheng)器），能(neng)夠在(zai)半導體生(sheng)產遇(yu)到的惡劣(lie)條件下(xia)可靠運行。這使(shi)(shi)得Aston能(neng)夠以原位(wei)狀態在(zai)苛刻(ke)環(huan)境中(zhong)使(shi)(shi)用。在(zai)那種環(huan)境下(xia)，傳統電子(zi)(zi)式(shi)離子(zi)(zi)發生(sheng)器會發生(sheng)腐蝕，而且會迅(xun)速出現(xian)故障。

與傳統質(zhi)量分析儀相比，使用Aston的(de)(de)維修間隔長達100倍。它包括自清潔功(gong)能，可消除由(you)于某些工藝中存(cun)在的(de)(de)冷(leng)凝物沉積(ji)(ji)而導致(zhi)的(de)(de)污垢積(ji)(ji)累。

由于(yu)Aston會生成自己的等(deng)(deng)(deng)(deng)離(li)子(zi)(zi)體，因(yin)此在它工(gong)(gong)作時，過(guo)程等(deng)(deng)(deng)(deng)離(li)子(zi)(zi)體可(ke)有可(ke)無。這比發射光譜計量技術有明顯的優勢，因(yin)為后者需要一(yi)個等(deng)(deng)(deng)(deng)離(li)子(zi)(zi)體源(yuan)來(lai)工(gong)(gong)作，這使(shi)(shi)Aston成為原(yuan)子(zi)(zi)層沉積（ALD）和某些可(ke)能使(shi)(shi)用弱等(deng)(deng)(deng)(deng)離(li)子(zi)(zi)體、脈(mo)沖(chong)等(deng)(deng)(deng)(deng)離(li)子(zi)(zi)體或不使(shi)(shi)用等(deng)(deng)(deng)(deng)離(li)子(zi)(zi)體進行處理的金屬沉積工(gong)(gong)藝的理想選擇。

Ascon還通(tong)過提(ti)供(gong)量化、可(ke)操作的(de)實(shi)時(shi)數據來改進工藝一致性，通(tong)過人工智能（AI）促進強大的(de)機器(qi)學習功能，以(yi)符合要求最苛刻的(de)工藝應用。此外，由于實(shi)時(shi)數據統計分(fen)析和(he)(he)工藝腔室管(guan)理的(de)高(gao)精度(du)、高(gao)靈(ling)敏度(du)和(he)(he)可(ke)重復性，這進一步改進了(le)生產(chan)線并提(ti)高(gao)了(le)產(chan)品產(chan)量。

Ascon主要用(yong)于(yu)化學氣相沉(chen)積（CVD）和(he)蝕刻應(ying)用(yong)，這(zhe)兩種應(ying)用(yong)的(de)(de)年增(zeng)長(chang)率均(jun)超過(guo)13%。此款光(guang)譜儀可以(yi)在新工(gong)藝腔(qiang)室的(de)(de)組裝過(guo)程中進行安裝，也可將其加裝到(dao)已(yi)運行的(de)(de)現(xian)有(you)腔(qiang)室。

Ascon還可(ke)與ATI Korea開(kai)發的(de)智(zhi)能壓力控(kong)制器(qi)Psi配套使(shi)用(yong)。經過歷時數月的(de)綜合可(ke)行性評估(gu)，這一組合解決方(fang)案最近，用(yong)于先進的(de)工(gong)藝控(kong)制應用(yong)。

Aston現可接(jie)受評估和訂購，可進行直接(jie)購買或通(tong)過Atonarp的購買。