上海2014年3月17日電 /美通社/ -- 由盛美半導體設備（上海）有限公司自主研發的新一代(dai)12英寸8腔Ultra C SAPS III兆聲波單(dan)片清洗設備亮相Semicon China（展(zhan)位：N2館2567）。此臺(tai)設備較大的三個亮點(dian)為(wei)：小面(mian)積、高效率、更環保。

“隨著技術(shu)節點(dian)進(jin)入20納米，清(qing)洗工(gong)藝(yi)的(de)步數(shu)在不(bu)斷(duan)增加，幾乎接近全部(bu)生產(chan)工(gong)藝(yi)的(de)三分(fen)之一，需要的(de)單片(pian)清(qing)洗設備(bei)更(geng)多(duo)。此時(shi)，為了提高fab的(de)產(chan)能，減少單片(pian)清(qing)洗設備(bei)的(de)占地面積成為刻不(bu)容緩的(de)需求。”盛美半導體(ti)設備(bei)公司的(de)創始(shi)人、首席執(zhi)行官王暉博(bo)士說，“在不(bu)損(sun)失芯片(pian)材料的(de)同時(shi)，去除微小顆(ke)粒及污染(ran)成為當今清(qing)洗工(gong)藝(yi)的(de)一大難(nan)題。盛美用(yong)獨創的(de)SAPS（Space Alternated Phase Shift）兆聲波技術(shu)與更(geng)稀的(de)化學液（ppm量級）配合，可以解決這一難(nan)題。裝備(bei)該技術(shu)的(de)Ultra C SAPS II已在國際大生產(chan)線上穩(wen)定運行兩年(nian)多(duo)，大幅提高了客戶產(chan)品的(de)良(liang)率。”

這臺Ultra C SAPS III兆聲(sheng)波單(dan)(dan)片清(qing)洗(xi)(xi)設(she)備占地(di)面(mian)積僅為2.25米（W）×2.5米（L），是傳(chuan)統單(dan)(dan)片清(qing)洗(xi)(xi)設(she)備占地(di)面(mian)積的(de)(de)(de)二分之一，是目(mu)前業界同級(ji)別，相(xiang)同配置中(zhong)面(mian)積較(jiao)小的(de)(de)(de)12英寸單(dan)(dan)片清(qing)洗(xi)(xi)設(she)備,較(jiao)大產量可達400片/小時。設(she)備可根(gen)據(ju)工(gong)藝(yi)需求，配置兩種化學液，ppm量級(ji)的(de)(de)(de)化學液也可緩解當今fab受到的(de)(de)(de)日益增長(chang)的(de)(de)(de)環境保護的(de)(de)(de)壓力。