上海2013年4月23日電 /美通社/ -- 盛美半導體設備(上海)有限公司今天宣布2013年(nian)第二(er)季(ji)度伊始再獲訂(ding)(ding)單(dan)(dan),分別(bie)來自(zi)上(shang)海晶盟硅(gui)材料(6寸(cun)、8寸(cun)各一(yi)臺(tai)(tai))以及臺(tai)(tai)灣合晶集(ji)團(6寸(cun)、8寸(cun)各一(yi)臺(tai)(tai))。其中(zhong),上(shang)海晶盟的(de)(de)訂(ding)(ding)單(dan)(dan)為重(zhong)復訂(ding)(ding)單(dan)(dan)。這四臺(tai)(tai)清(qing)洗機(ji)訂(ding)(ding)單(dan)(dan)的(de)(de)成功(gong)獲得,標志(zhi)著(zhu)盛(sheng)美(mei)(mei)的(de)(de)單(dan)(dan)片SAPS兆聲波清(qing)洗設(she)備成功(gong)進入硅(gui)片清(qing)洗以及外延片清(qing)洗量產客戶(hu)。盛(sheng)美(mei)(mei)的(de)(de)客戶(hu)對購買的(de)(de)清(qing)洗機(ji)給予了(le)(le)極高(gao)的(de)(de)評價,在(zai)使用盛(sheng)美(mei)(mei)的(de)(de)清(qing)洗設(she)備后,產品(pin)良率得到大(da)幅(fu)提升的(de)(de)同(tong)時(shi)也(ye)降低了(le)(le)生產成本 (CoO)。
“這筆訂單的(de)取得對盛美(mei)來說無疑是個重(zhong)大(da)的(de)里程碑(bei)。”盛美(mei)半導(dao)體設(she)備公司(si)的(de)創(chuang)始人(ren)、首席執行(xing)官王暉博士說,“SAPS兆聲波清洗這一差異性的(de)先進(jin)技(ji)術(shu)的(de)未(wei)來應用潛力巨大(da),我們將與(yu)我們現在以及未(wei)來客戶一起(qi)共(gong)同努力,迎接新(xin)的(de)挑戰,開拓新(xin)的(de)工藝及應用,為半導(dao)體拋(pao)光片(pian)、硅片(pian)、以及TSV先進(jin)封裝提(ti)供(gong)完美(mei)的(de)清洗解決方案。”
這四臺(tai)單片清(qing)(qing)洗(xi)機裝備了盛美的(de)(de)(de)SAPS (Space Alternated Phase Shift) 空(kong)間交變相(xiang)移技術兆(zhao)聲(sheng)波技術,該技術具(ju)有(you)極高(gao)的(de)(de)(de)顆(ke)(ke)粒去(qu)除效(xiao)率(lv),并且可(ke)以控制硅片表面的(de)(de)(de)能(neng)量密度均(jun)勻(yun)的(de)(de)(de)分布以去(qu)除“hot spots”,達到(dao)對(dui)器件的(de)(de)(de)無損傷清(qing)(qing)洗(xi)。利(li)用Ultra C?,以純(chun)水為介(jie)質的(de)(de)(de)工藝已經能(neng)達到(dao)高(gao)的(de)(de)(de)顆(ke)(ke)粒去(qu)除效(xiao)率(lv),并且所有(you)的(de)(de)(de)化學(xue)清(qing)(qing)洗(xi)液均(jun)可(ke)單獨(du)回收循環利(li)用。
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